@MASTERSTHESIS{ 2019:951329870, title = {Comp?sitos ? base de pol?meros e ze?litas para adsor??o e fotodegrada??o de compostos org?nicos vol?teis}, year = {2019}, url = "http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/9019", abstract = "Os Compostos Org?nicos Vol?teis (COVs) est?o entre os principais poluentes atmosf?ricos, conferindo ao meio ambiente e ? sa?de humana v?rios problemas devido ? sua alta toxicidade. Adsor??o e fotodegrada??o s?o amplamente utilizadas na remo??o de COVs do ar, uma vez que s?o processos de alta efici?ncia e baixo custo. O uso de filmes polim?ricos incorporados com compostos de ze?lita-TiO2 associados ? radia??o UV ? uma alternativa na remo??o desses poluentes atrav?s de processos de adsor??o e fotodegrada??o. O presente trabalho visa produzir filmes de Poli(?cido l?ctico) - PLA incorporados com ze?lita 13X, TiO2 e comp?sito ze?lita 13X-TiO2 (ZT) pela t?cnica de solvent casting, para remover o n-butanol (mol?cula modelo de COV) do ar. Portanto, os filmes foram preparados utilizando ze?lita (8%), TiO2 (2%) e comp?sito ZT em diferentes porcentagens (0, 5, 10 e 25%) adicionados ? matriz de PLA. Os resultados demonstraram que a Ze?lita 13X e o TiO2 adicionados individualmente ou em forma de comp?sito ao PLA conferem ? matriz polim?rica um aumento na capacidade de remo??o de n-butanol, com um melhor desempenho do comp?sito ZT do que as cargas individuais, sugerindo um efeito sin?rgico. Os testes de fotodegrada??o do n-butanol resultaram na forma??o de CO, CO2 e v?rios subprodutos org?nicos oxigenados, sendo o butanal o intermedi?rio mais significativo formado. A presen?a da ze?lita 13X parece inibir a forma??o de subprodutos indesej?veis e contribuir para a remo??o do n-butanol, indicando sua aplica??o na remo??o de COVs nos ambientes de ar interno, com menor risco de fotodegrada??o da matriz polim?rica do que a observada nos filmes contendo TiO2.", publisher = {Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul}, scholl = {Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais}, note = {Escola Polit?cnica} }