@PHDTHESIS{ 2019:334277078,
 	title = {Desenvolvimento de fotoeletrodos de si com micro e nanotexturação : otimização do contato posterior e do cocatalisador de superfície},
 	year = {2019},
 	url = "http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/8986",
 	abstract = "O processo fotoeletroquímico da água para produção de H2 e O2 é uma
 alternativa promissora às fontes de energia de alto impacto ambiental preponderantes
 na matriz energética mundial. Neste processo, fotoeletrodos baseados em
 semicondutores convertem a energia emitida pelo Sol em tensão e corrente
 fotogerados que fomentam a quebra da molécula da água. O presente trabalho
 dedica-se à confecção, otimização e caracterização de fotoeletrodos de silício tipo p,
 com o objetivo de aprimorar sua capacidade de capturar fótons incidentes e escoar
 portadores de carga nas interfaces frontal e posterior. As texturações de superfície via
 ataque químico anisotrópico e etching seletivo melhoram as propriedades ópticas do
 fotoeletrodo reduzindo a refletância ponderada média, em consequência das
 sucessivas reflexões, em 6,18% e 25,27% respectivamente. Aumentam
 significativamente a área superficial dos fotoeletrodos. A implementação de processos
 adequados de preparo e deposição de filmes metálicos para criação de contato
 posterior e decoração com cocatalisadores de superfície via magnetron sputtering
 (MS) otimizado para as superfícies texturadas obtiveram significativa melhora na
 eficiência dos fotoeletrodos. Os processos desenvolvidos neste trabalho alcançaram
 resultados como: 1,63% de eficiência para fotoeletrodos as-cut com cocatalisador de
 paládio com 60 s de deposição via MS e 3,26% de eficiência com cocatalisador de
 platina com 30 s de deposição; 2,97% de eficiência para fotoeletrodo nanotexturado
 via etching seletivo com tempo de 2,5 min de ataque químico e com cocatalisador de
 platina com 15 s de deposição; 5,07% de eficiência para fotoeletrodo microtexturado
 via ataque químico anisotrópico com cocatalisador de superfície de platina com tempo
 de deposição de 45 s.",
 	publisher = {Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul},
 	scholl = {Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Tecnologia de Materiais},
 	note = {Escola Politécnica}
}