@PHDTHESIS{ 2019:860733265,
 	title = {Desenvolvimento de fotoeletrodos de si com micro e nanotextura??o : otimiza??o do contato posterior e do cocatalisador de superf?cie},
 	year = {2019},
 	url = "http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/8986",
 	abstract = "O processo fotoeletroqu?mico da ?gua para produ??o de H2 e O2 ? uma
 alternativa promissora ?s fontes de energia de alto impacto ambiental preponderantes
 na matriz energ?tica mundial. Neste processo, fotoeletrodos baseados em
 semicondutores convertem a energia emitida pelo Sol em tens?o e corrente
 fotogerados que fomentam a quebra da mol?cula da ?gua. O presente trabalho
 dedica-se ? confec??o, otimiza??o e caracteriza??o de fotoeletrodos de sil?cio tipo p,
 com o objetivo de aprimorar sua capacidade de capturar f?tons incidentes e escoar
 portadores de carga nas interfaces frontal e posterior. As textura??es de superf?cie via
 ataque qu?mico anisotr?pico e etching seletivo melhoram as propriedades ?pticas do
 fotoeletrodo reduzindo a reflet?ncia ponderada m?dia, em consequ?ncia das
 sucessivas reflex?es, em 6,18% e 25,27% respectivamente. Aumentam
 significativamente a ?rea superficial dos fotoeletrodos. A implementa??o de processos
 adequados de preparo e deposi??o de filmes met?licos para cria??o de contato
 posterior e decora??o com cocatalisadores de superf?cie via magnetron sputtering
 (MS) otimizado para as superf?cies texturadas obtiveram significativa melhora na
 efici?ncia dos fotoeletrodos. Os processos desenvolvidos neste trabalho alcan?aram
 resultados como: 1,63% de efici?ncia para fotoeletrodos as-cut com cocatalisador de
 pal?dio com 60 s de deposi??o via MS e 3,26% de efici?ncia com cocatalisador de
 platina com 30 s de deposi??o; 2,97% de efici?ncia para fotoeletrodo nanotexturado
 via etching seletivo com tempo de 2,5 min de ataque qu?mico e com cocatalisador de
 platina com 15 s de deposi??o; 5,07% de efici?ncia para fotoeletrodo microtexturado
 via ataque qu?mico anisotr?pico com cocatalisador de superf?cie de platina com tempo
 de deposi??o de 45 s.",
 	publisher = {Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul},
 	scholl = {Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais},
 	note = {Escola Polit?cnica}
}