@MASTERSTHESIS{ 2012:985678307, title = {Forma??o e estabilidade t?rmica de filmes ultrafinos de PMMA}, year = {2012}, url = "http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/3258", abstract = "Nesse trabalho foi investigada a forma??o e estabilidade t?rmica de filmes ultrafinos de PMMA de diferentes espessuras (entre 2 e 50 nm) depositados sobre l?minas de Si. Para observar os efeitos ocasionados por tratamento t?rmico nos diferentes ambientes na morfologia da superf?cie, foram realizados recozimentos em tempos pr?-determinados em ar, N2 e v?cuo, em temperaturas acima (150 C?), pr?ximas (100 e 120?C) ou muito abaixo da temperatura de transi??o v?trea Tg nominal do material. Tamb?m foi estudado o efeito de pr?-irradia??o com ?ons de alta energia (300 keV e 2 MeV H+ e 18 MeV Au+) na estabilidade dos filmes para tratamento t?rmico no v?cuo. Os filmes como depositados apresentaram superf?cies lisas e uniformes com exce??o de alguns filmes, em geral mais grossos, que apresentaram buracos circulares de tamanhos entre 100 e 300 nm em algumas regi?es. Observou-se um aumento suave da rugosidade dos filmes com o crescimento da espessura h dos filmes at? h~10 nm. Para filmes com espessura h>10 nm a rugosidade quadr?tica m?dia (RRMS) do filme tendeu a estabilizar em torno de ~0,25 nm. Os filmes mantidos em ar na temperatura ambiente mostraram em alguns casos efeito de envelhecimento com aumentos na rugosidade de at? 20% num per?odo de 60 dias. Para per?odos curtos, n?o se observou um efeito significativo nos filmes. Os filmes que foram tratados em temperatura acima ou pr?ximo da Tg apresentaram crescimento nos valores de RRMS para todos os tipos de atmosferas. A magnitude de varia??o foi, contudo mais acentuado para o v?cuo: a rugosidade dos filmes chegou a alcan?ar um valor at? tr?s vezes o valor inicial ap?s um per?odo de 24h. No geral, os filmes mais finos se mostraram mais est?veis frente aos tratamentos t?rmicos em todos os diferentes ambientes. Esse resultado pode estar vinculado ao predom?nio das intera??es de interface polares (entre o ?xido nativo na superf?cie do sil?cio e os grupos C=O do PMMA) nos filmes ultrafinos. A irradia??o com ?ons pesados aumentou a rugosidade dos filmes para todas as flu?ncias utilizadas. Por sua vez a irradia??o com ?ons leves nas duas energias utilizadas acelerou a desestabiliza??o dos filmes em doses baixas, mas gerou uma melhoria na estabilidade em doses intermedi?rias. Esses efeitos podem ser atribu?dos aos tipos de modifica??es introduzidas pelos ?ons em cada regime de energia. Para os ?ons de Au+ os danos e o sputtering s?o muito mais acentuados, favorecendo forma??o de buracos na superf?cie. Para ?ons de H+, predominam os efeitos dilu?dos dos el?trons secund?rios que podem aumentar a mobilidade das cadeias via processo de cis?o em flu?ncias baixas, mas favorecem a reticula??o e estabiliza??o para doses mais altas.", publisher = {Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul}, scholl = {Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais}, note = {Faculdade de Engenharia} }