@PHDTHESIS{ 2013:1044213710,
 	title = {An?lise fotoel?stica da influ?ncia da aplica??o de carga no padr?o de distribui??o de tens?es em implantes dent?rios},
 	year = {2013},
 	url = "http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/1212",
 	abstract = "O objetivo deste estudo foi avaliar e comparar a distribui??o de tens?es de implantes utilizando a t?cnica da plataforma switching com os di?metros convencionais, atrav?s do m?todo da fotoelasticidade, em implantes do tipo hex?gono externo e hex?gono interno. Cinco modelos foram constru?dos com a resina fotoel?stica KIT FLEX?VEL G3 (POLIPOX Ind. E Com., S?o Paulo Brasil), com um implante unit?rio em cada um deles. Estes modelos foram MODELO A plataforma de 4.1mm HE/pilar de 4.1mm, MODELO B plataforma de 5.0mm HE/pilar de 4.1mm, MODELO C plataforma de 5.0mm HE/ pilar de 5.0mm, MODELO D plataforma de 4.5mm HI/pilar de 4.5mm e MODELO E plataforma de 4.5mm HI/pilar de 3.8mm. Uma carga axial de 100N foi aplicada em um polarisc?pio plano para a verifica??o da franjas isocrom?ticas. As imagens foram fotografadas com uma c?mera digital CANON EOS DIGITAL REBEL XTI e visualizadas com o software especialmente desenvolvido para este trabalho. Os valores de tens?o m?xima cisalhante total para o implante HISW foi de 20,16KPa, HI 20,64KPa, HESW 21,84KPa, HE 21,70KPa e para o implante controle 20,74KPa. O implante de hex?gono interno apresentou uma melhor distribui??o de carga e menores valores de tens?o com a utiliza??o da t?cnica plataforma switching, sendo que nenhum sistema foi capaz de eliminar tens?o em algum dos ter?os.",
 	publisher = {Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul},
 	scholl = {Programa de P?s-Gradua??o em Odontologia},
 	note = {Faculdade de Odontologia}
}