@MASTERSTHESIS{ 2024:1657278767,
 	title = {An?lise de processos de textura??o para c?lulas solares N-PERC com emissor P+ formado por radia??o laser},
 	year = {2024},
 	url = "https://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/11192",
 	abstract = "Esta disserta??o trata do processamento e an?lise de emissores dopados com boro, formados com difus?o a laser e textura??o seletiva. A textura??o seletiva se constitui em uma forma de produzir regi?es planas (sem textura) onde h? boro difundido e regi?es texturadas onde n?o h? boro. As amostras foram produzidas por meio de tr?s processos: A, B e C. No processo A ou de textura??o seletiva, a difus?o de boro foi realizada antes do ataque anisotr?pico necess?rio para formar uma superf?cie texturada e analisou-se o emprego de quatro tempos de textura??o p?s-laser. No processo B, a textura??o das superf?cies foi realizada antes da difus?o de boro com laser. No processo C foi realizado apenas o processamento a laser, a fim de avaliar somente os danos ocasionados na l?mina de sil?cio. As amostras foram analisadas por microscopia ?ptica, microscopia eletr?nica de varredura, medi??o da resist?ncia de folha (RSQ), reflet?ncia e tempo de vida dos portadores de carga minorit?rios (?). As amostras desenvolvidas pelo processo B (processo de controle) apresentaram valores de RSQ da ordem de 26 ? 28 ?/sq, enquanto as amostras desenvolvidas pelo processo A (processo com textura??o seletiva) obtiveram um aumento nos valores de RSQ, sendo da ordem de 53 - 60 ?/sq. Com rela??o a an?lise da reflet?ncia, observou-se que todas as l?minas de Si que passaram pelo processo A apresentaram valores maiores de reflet?ncia em rela??o as l?minas que passaram pelo processo B, havendo uma diferen?a de 4% na reflet?ncia m?dia ponderada mesmo para as amostras submetidas a um mesmo per?odo de textura??o de 60 min. Ao se analisar a diferen?a percentual entre os valores de tempo de vida dos portadores de carga minorit?rios das regi?es onde ocorreu a difus?o com laser (trilhas) e das regi?es sem difus?o (entre trilhas), observou-se uma maior redu??o do ? nas amostras do processo de controle, com textura??o pr?-laser (processo B). Esses resultados s?o um indicativo de que o uso de um ataque anisotr?pico com KOH p?s-difus?o a laser reduz parcialmente os danos gerados no processamento.",
 	publisher = {Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul},
 	scholl = {Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais},
 	note = {Escola Polit?cnica}
}