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Document type: Tese
Title: Análise fotoelástica da influência da aplicação de carga no padrão de distribuição de tensões em implantes dentários
Author: Barbieri, Guilherme Machado 
Advisor: Burnett Junior, Luiz Henrique
Abstract (native): O objetivo deste estudo foi avaliar e comparar a distribuição de tensões de implantes utilizando a técnica da plataforma switching com os diâmetros convencionais, através do método da fotoelasticidade, em implantes do tipo hexágono externo e hexágono interno. Cinco modelos foram construídos com a resina fotoelástica KIT FLEXÍVEL G3 (POLIPOX Ind. E Com., São Paulo Brasil), com um implante unitário em cada um deles. Estes modelos foram MODELO A plataforma de 4.1mm HE/pilar de 4.1mm, MODELO B plataforma de 5.0mm HE/pilar de 4.1mm, MODELO C plataforma de 5.0mm HE/ pilar de 5.0mm, MODELO D plataforma de 4.5mm HI/pilar de 4.5mm e MODELO E plataforma de 4.5mm HI/pilar de 3.8mm. Uma carga axial de 100N foi aplicada em um polariscópio plano para a verificação da franjas isocromáticas. As imagens foram fotografadas com uma câmera digital CANON EOS DIGITAL REBEL XTI e visualizadas com o software especialmente desenvolvido para este trabalho. Os valores de tensão máxima cisalhante total para o implante HISW foi de 20,16KPa, HI 20,64KPa, HESW 21,84KPa, HE 21,70KPa e para o implante controle 20,74KPa. O implante de hexágono interno apresentou uma melhor distribuição de carga e menores valores de tensão com a utilização da técnica plataforma switching, sendo que nenhum sistema foi capaz de eliminar tensão em algum dos terços.
Abstract (english): The aim of this study was to evaluate and compare stress distribution around implants using platform switching technique with conventional diameters, using the photoelasticity method in internal and external hex-type implants. Five models were fabricated using photoelastic resin kit FLEXIBLE G3 (POLIPOX Ind. E Com, Sao Paulo Brazil) with a single-body implant in each of them. These models were as follows: MODEL A - 4.1mm platform with 4.1mm external hex implant-abutment connection; MODEL B - 5.0mm platform with 4.1mm external hex implant-abutment connection; MODEL C - 5.0mm platform with 5.0-mm external hex implant-abutment connection; MODEL D - 4.5mm platform with 4.5mm internal hex implant-abutment connection; and MODEL E - 4.5mm platform 3.8mm internal hex implant-abutment connection. An axial load of 100N was applied in a plane polariscope to verify isochromatic fringes. The images were photographed with a digital camera CANON EOS DIGITAL REBEL XTI and viewed with software specially developed for this study. The values for total maximum shear stress for implant HISW was 20.16 kPa, HI 20.64 kPa, 21.84 kPa HESW, HE 21.70 kPa and 20.74 kPa for control implant. The internal hex implant showed better load distribution and lower stress values when the platform switching technique was used and no system was able to eliminate stress on some thirds.
Keywords: ODONTOLOGIA
DENTÍSTICA
IMPLANTODONTIA
FOTOELASTICIDADE
CNPQ Knowledge Areas: CNPQ::CIENCIAS DA SAUDE::ODONTOLOGIA
Language: por
Country: BR
Publisher: Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
Institution Acronym: PUCRS
Department: Faculdade de Odontologia
Program: Programa de Pós-Graduação em Odontologia
Citation: BARBIERI, Guilherme Machado. Análise fotoelástica da influência da aplicação de carga no padrão de distribuição de tensões em implantes dentários. 2013. 67 f. Tese (Doutorado em Odontologia) - Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul, Porto Alegre, 2013.
Access type: Acesso Aberto
URI: http://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/1212
Issue Date: 17-Jan-2013
Appears in Collections:Programa de Pós-Graduação em Odontologia

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